ASML執行長布林克:浸潤式微影奇蹟 EUV得以延長摩爾定律

艾司摩爾總裁布林克(Martin van den Brink)接受荷蘭媒體de Volskrant專訪時指出,如果沒有EUV,摩爾定律可能更早就結束,他同時提及浸潤式微影(Immersion Lithography)技術「是個奇蹟」,並幽默表示「若是EUV冒險失敗,我早就退休了」。

de Volskrant指出,ASML的客戶是台灣台積電(全球第 12 位)、韓國三星(全球第 25 位)和美國英特爾(全球第 66 位)等晶片製造商。布林克指出,「我們的電話、汽車、電視、筆記本電腦、遊戲電腦、心臟起搏器、智能冰箱和其他小工具變得更快、更便宜。」

浸潤式微影技術教父、台積電前研發副總林本堅則在他的著作中指出,從45奈米的世代成為生產半導體的主流,到現在的7奈米,一共經過六個世代,其中有好些曲折的經過。要微影界放棄將近10億美元的投資,改用浸潤式,終究不是一件簡單的事!

「假如沒有你和你所建立的團隊,台積電的微影不會有今天這規模。」2015年,林本堅從台積電退休時,創辦人張忠謀為他舉辦的晚會上發表的這句感言,肯定了他過去在台積電15年難以被取代的建樹。

能讓治軍甚嚴的張忠謀有如此高的推崇,正是因為2002年他所發明的浸潤式微影技術,突破傳統乾式顯影技術的局限,讓摩爾定律得以在55奈米製程之後持續延續,更是台積電技術甩開英特爾、三星的一大關鍵。

林本堅著作中指出,「我個人也因此得到公司內外的很多認可」、「這是上帝賜給我眼睛未曾看見,耳朵未曾聽見,人心未曾想到的恩典」。

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