ASML執行長布林克：浸潤式微影奇蹟 EUV得以延長摩爾定律
艾司摩爾總裁布林克（Martin van den Brink）接受荷蘭媒體de Volskrant專訪時指出，如果沒有EUV，摩爾定律可能更早就結束，他同時提及浸潤式微影（Immersion Lithography）技術「是個奇蹟」，並幽默表示「若是EUV冒險失敗，我早就退休了」。
de Volskrant指出，ASML的客戶是台灣台積電（全球第 12 位）、韓國三星（全球第 25 位）和美國英特爾（全球第 66 位）等晶片製造商。布林克指出，「我們的電話、汽車、電視、筆記本電腦、遊戲電腦、心臟起搏器、智能冰箱和其他小工具變得更快、更便宜。」
浸潤式微影技術教父、台積電前研發副總林本堅則在他的著作中指出，從45奈米的世代成為生產半導體的主流，到現在的7奈米，一共經過六個世代，其中有好些曲折的經過。要微影界放棄將近10億美元的投資，改用浸潤式，終究不是一件簡單的事！
「假如沒有你和你所建立的團隊，台積電的微影不會有今天這規模。」2015年，林本堅從台積電退休時，創辦人張忠謀為他舉辦的晚會上發表的這句感言，肯定了他過去在台積電15年難以被取代的建樹。
能讓治軍甚嚴的張忠謀有如此高的推崇，正是因為2002年他所發明的浸潤式微影技術，突破傳統乾式顯影技術的局限，讓摩爾定律得以在55奈米製程之後持續延續，更是台積電技術甩開英特爾、三星的一大關鍵。
林本堅著作中指出，「我個人也因此得到公司內外的很多認可」、「這是上帝賜給我眼睛未曾看見，耳朵未曾聽見，人心未曾想到的恩典」。
