荷蘭夏季前頒布半導體設備出口新規定 影響ASML部分DUV設備

荷蘭政府周三 (8 日) 表示，計劃對晶片製造設備出口實施新規定以保障國家安全，將在夏季以前公布內容，這代表荷蘭將加入美國遏制對中科技出口的行列，艾司摩爾 (ASML-US) 至少一部分的深紫外光 (DUV) 曝光微影系統預料受到影響。

荷蘭外國貿易和發展合作部部長 Liesje Schreinemacher，在致國會議員信中概略描述研議中的半導體出口限制，她說：「在科技發展和地緣政治背景下，荷蘭政府認為有必要為了國家和國際安全，把現有的出口管制措施延伸到特定的半導體生產設備上。」

信中透露，將在夏季以前宣布管制措施。Schreinemacher 表示，荷蘭政府將盡可能以謹慎、精準的方式研擬出口管制，避免價值鏈遭遇不必要的破壞。

這封信雖然沒有提及荷蘭的重要貿易夥伴中國，也沒有提到荷蘭的半導體設備大廠 ASML，但兩者都將受到影響。信中特別點名「DUV 設備」會受到影響，正是 ASML 賣給電腦晶片製造商的次先進設備。